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O/N比率对磁控溅射制备TiNxOy薄膜光学性质的影响 会议论文
纳米材料与技术应用进展--第四届全国纳米材料会议论文集, 纳米材料与技术应用进展--第四届全国纳米材料会议论文集, 第四届全国纳米材料会议, 第四届全国纳米材料会议, 山东烟台, 2005-10-01
Authors:  王建强;  沈辉;  汪保卫
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反应磁控溅射  吸收率  沉积速率  Tinxoy薄膜  分光光度计  光学性质  
温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 会议论文
2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集, 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集, 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议, 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议, 沈阳, 2005-07-14
Authors:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时
Adobe PDF(424Kb)  |  Favorite  |  View/Download：584/131  |  Submit date：2011/07/26
二氧化钛薄膜  直流反应  磁控溅射  温度  反射率  光学性质  
氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 期刊论文
中山大学学报：自然科学版, 2005, 卷号: 44, 期号: 6, 页码: 36-40
Authors:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时
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总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 期刊论文
真空科学与技术学报, 2005, 卷号: 25, 期号: 1, 页码: 65-68
Authors:  王贺权;  巴德纯;  沈辉;  汪保卫;  闻立时
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温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响 期刊论文
材料科学与工程学报, 2005, 卷号: 23, 期号: 3, 页码: 341-344
Authors:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时
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靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响 期刊论文
真空, 2005, 卷号: 042, 期号: 001, 页码: 11
Authors:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时
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靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 会议论文
第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛, 第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛, 深圳, 2004-11-15
Authors:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时
Adobe PDF(190Kb)  |  Favorite  |  View/Download：668/183  |  Submit date：2011/07/26
二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  靶基距  反射率  
Ni-Cr系光谱选择性吸收薄膜制备与表征 学位论文
硕士, 2002
Authors:  汪保卫
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选择性吸收薄膜  磁控溅射  吸收率  发射率