总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响

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	总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响
	王贺权; 巴德纯; 沈辉; 汪保卫; 闻立时
	2005
Source Publication	真空科学与技术学报
Volume	25 Issue:1 Pages:65-68
Cooperation Status	其它
Indexed By	其他
Language	中文
Document Type	期刊论文
Identifier	http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/494
Collection	中国科学院广州能源研究所
Recommended Citation GB/T 7714	王贺权,巴德纯,沈辉,等. 总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响[J]. 真空科学与技术学报,2005,25(1):65-68.
APA	王贺权,巴德纯,沈辉,汪保卫,&闻立时.(2005).总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响.真空科学与技术学报,25(1),65-68.
MLA	王贺权,et al."总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响".真空科学与技术学报 25.1(2005):65-68.

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