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总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 | |
王贺权; 巴德纯; 沈辉; 汪保卫; 闻立时 | |
2005 | |
Source Publication | 真空科学与技术学报 |
Volume | 25Issue:1Pages:65-68 |
Cooperation Status | 其它 |
Indexed By | 其他 |
Language | 中文 |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/494 |
Collection | 中国科学院广州能源研究所 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 王贺权,巴德纯,沈辉,等. 总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响[J]. 真空科学与技术学报,2005,25(1):65-68. |
APA | 王贺权,巴德纯,沈辉,汪保卫,&闻立时.(2005).总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响.真空科学与技术学报,25(1),65-68. |
MLA | 王贺权,et al."总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响".真空科学与技术学报 25.1(2005):65-68. |
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总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜(179KB) | 开放获取 | License | View Download |
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