温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响

GIEC OpenIR > 中国科学院广州能源研究所

	温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响
	王贺权; 沈辉; 巴德纯; 汪保卫; 闻立时
	2005
Source Publication	材料科学与工程学报
Volume	23 Issue:3 Pages:341-344
Cooperation Status	其它
Indexed By	其他
Language	中文
Document Type	期刊论文
Identifier	http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/482
Collection	中国科学院广州能源研究所
Recommended Citation GB/T 7714	王贺权,沈辉,巴德纯,等. 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响[J]. 材料科学与工程学报,2005,23(3):341-344.
APA	王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,&闻立时.(2005).温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响.材料科学与工程学报,23(3),341-344.
MLA	王贺权,et al."温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响".材料科学与工程学报 23.3(2005):341-344.

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