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温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响 | |
王贺权; 沈辉; 巴德纯; 汪保卫; 闻立时 | |
2005 | |
Source Publication | 材料科学与工程学报 |
Volume | 23Issue:3Pages:341-344 |
Cooperation Status | 其它 |
Indexed By | 其他 |
Language | 中文 |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/482 |
Collection | 中国科学院广州能源研究所 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 王贺权,沈辉,巴德纯,等. 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响[J]. 材料科学与工程学报,2005,23(3):341-344. |
APA | 王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,&闻立时.(2005).温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响.材料科学与工程学报,23(3),341-344. |
MLA | 王贺权,et al."温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响".材料科学与工程学报 23.3(2005):341-344. |
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温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光(190KB) | 开放获取 | License | View Download |
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