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钒离子掺杂对TiO2光催化剂薄膜催化活性的影响 | |
于书平1; 古国榜1; 李新军2![]() | |
2004 | |
Source Publication | 化学通报
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ISSN | 0441-3776 |
Volume | 067Issue:011Pages:835 |
Abstract | 采用溶胶凝胶工艺在普通玻璃表面制备了钒离子非均匀掺杂的TiO2薄膜,运用XRD研究了其光催化复合薄膜的表面特征。以光催化降解甲基橙溶液为模型反应,表征薄膜的光催化活性,结果表明,将钒离子富集在TiO2薄膜内部时,最佳掺杂浓度为1.0%(V/Ti原子百分比),最佳降解表观速率常数为7.44×10^-3min^-1,约是纯TiO2的2.3倍,有效地提高了TiO2半导体的光催化效率。通过XPS与电化学方法进行分析,说明将钒离子富集在TiO2薄膜内部十分有利于电子—空穴的分离,增强了光生电子与空穴的分离效率。 |
Language | 英语 |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/21710 |
Collection | 中国科学院广州能源研究所 |
Affiliation | 1.华南理工大学 2.中国科学院广州能源研究所 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 于书平,古国榜,李新军. 钒离子掺杂对TiO2光催化剂薄膜催化活性的影响[J]. 化学通报,2004,067(011):835. |
APA | 于书平,古国榜,&李新军.(2004).钒离子掺杂对TiO2光催化剂薄膜催化活性的影响.化学通报,067(011),835. |
MLA | 于书平,et al."钒离子掺杂对TiO2光催化剂薄膜催化活性的影响".化学通报 067.011(2004):835. |
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